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光刻与光刻胶的研究与发展
展望 | 更新时间：2022-09-18
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    • 光刻与光刻胶的研究与发展

    • Progress and Development Trend of Photolithography and Photoresist

    • 高分子通报   1993年6卷第3期 页码：129-133,185
    • 作者机构：

      清华大学化学系，北京，100084

    • 作者简介：

      [ "洪啸吟　1938年9月生，安徽歙县人。1966年北京大学化学系高分子专业研究生毕业，现任清华大学化学系教授，有机教研室主任，兼任\"Progress in Organic Coatings” 中国编委。研究领域主要为功能高分子材料包括光刻胶、涂料、粘合剂与感光材料；聚合反应引发体系及聚合方法等。" ]

    • DOI：10.14028/j.cnki.1003-3726.1993.03.001    

      中图分类号：

    • 纸质出版日期：1993-09，

    扫 描 看 全 文

  • 洪啸吟. 光刻与光刻胶的研究与发展[J]. 高分子通报, 1993,6(3):129-133,185. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.1993.03.001.

    Xiaoyin Hong. Progress and Development Trend of Photolithography and Photoresist[J]. Polymer Bulletin, 1993,6(3):129-133,185. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.1993.03.001.

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