无显影气相光刻（DFVP）研究的进展

洪啸吟; 李钟哲; 刘丹; 吴兵; 卢建平; 段生权; 陈明; 王培清

doi:10.14028/j.cnki.1003-3726.2002.03.001

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无显影气相光刻（DFVP）研究的进展

专论 | 更新时间：2022-09-18

- 无显影气相光刻（DFVP）研究的进展
- Progress in Development-free Vapor Photolithography
- 高分子通报 2002年15卷第3期页码：1-4,18
- 作者机构：
  
  清华大学化学系，北京　100084
- 作者简介：
  
  洪啸吟，安徽歙县人，清华大学化学系教授，博士生导师，有机化学研究所所长。兼任亚洲辐射技术学会（RadTech Asia）副主席，中国辐射固化分会副理事长，Progress in Organic Coatings，高分子学报，中国涂料，涂料工业，现代涂料与涂装，热固性树脂等杂志的编委。
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金委的资助(20074021;59633110;59473031);北京市自然科学基金委
- DOI：10.14028/j.cnki.1003-3726.2002.03.001
  中图分类号：
- 纸质出版日期：2002-06，
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洪啸吟, 李钟哲, 刘丹, 吴兵, 卢建平, 段生权, 陈明, 王培清. 无显影气相光刻（DFVP）研究的进展[J]. 高分子通报, 2002,15(3):1-4,18.

Xiao-yin HONG, Zhong-zhe LI, Dan LIU, Bing WU, Jian-ping LU, Sheng-quan DUAN, Ming CHEN, Pei-qing WANG. Progress in Development-free Vapor Photolithography[J]. Polymer Bulletin, 2002,15(3):1-4,18.
洪啸吟, 李钟哲, 刘丹, 吴兵, 卢建平, 段生权, 陈明, 王培清. 无显影气相光刻（DFVP）研究的进展[J]. 高分子通报, 2002,15(3):1-4,18. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.2002.03.001.

Xiao-yin HONG, Zhong-zhe LI, Dan LIU, Bing WU, Jian-ping LU, Sheng-quan DUAN, Ming CHEN, Pei-qing WANG. Progress in Development-free Vapor Photolithography[J]. Polymer Bulletin, 2002,15(3):1-4,18. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.2002.03.001.

摘要

无显影气相光刻技术是我国在1980年发明的一种独特的光刻技术

具有不需要显影

分辨率高等优点。但它的机理并不清楚。本文介绍十多年来在无显影气相光刻机理研究方面的成果。实验证明

无显影气相光刻是以光致光刻胶膜内的诱蚀剂浓度差为基础的方法；而传统的光刻方法是基于光致光刻胶膜溶解度差的方法。由于两者的光刻原理不同

导致了他们间光刻效果和应用范围之区别。所得机理研究之结果可以解释无显影气相光刻中的各种独特的现象并可指导无显影气相光刻技术的发展

克服技术中存在的问题。

Abstract

Development-free vapor Photolithography

which was discovered in 1980

is a very unique technology

however

its mechanism was not clearly understood.A serious of researches on mechanism was carried out by Xiaoyin Hong et al.In this paper the results of the mechanism researches are given.It was proved that the DFVP is based on the photo-induced difference of concentration of etching accelerators in the polymer film

while the traditional photolithography is base on photo-induced difference of solubility of the polymer film. Based on the proposed mechanism some phenomenon involved in DFVC are explained and some improvements have been made.

关键词

光刻光刻胶显影二氧化硅氢氟酸

Keywords

PhotolithographyPhotoresistDevelopmentSilicon dioxideHydrofluoride acid

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