化学放大光刻胶高分子材料研究进展

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化学放大光刻胶高分子材料研究进展

综述 | 更新时间：2022-09-18

- 化学放大光刻胶高分子材料研究进展
- Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist
- 高分子通报 2005年18卷第2期页码：70-80
- 作者机构：
  
  南开大学高分子化学研究所，吸附分离功能高分子材料国家重点实验室，天津　300071
- 作者简介：
  
  王春伟（1980－），男，硕士研究生，研究方向为功能高分子材料。
  ∗ hongli@nankai.edu.cn
- 基金信息：
- DOI：10.14028/j.cnki.1003-3726.2005.02.011
  中图分类号：
- 纸质出版日期：2005-04，
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王春伟, 李弘, 朱晓夏. 化学放大光刻胶高分子材料研究进展[J]. 高分子通报, 2005,18(2):70-80.

Chun-wei WANG, Hong LI, Xiao-xia ZHU. Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist[J]. Polymer Bulletin, 2005,18(2):70-80.
王春伟, 李弘, 朱晓夏. 化学放大光刻胶高分子材料研究进展[J]. 高分子通报, 2005,18(2):70-80. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.2005.02.011.

Chun-wei WANG, Hong LI, Xiao-xia ZHU. Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist[J]. Polymer Bulletin, 2005,18(2):70-80. DOI： 10.14028/j.cnki.1003-3726.2005.02.011.

综合论述了化学放大光刻胶类高分子材料，并着重介绍193

光刻胶材料研究的最近进展。

Photoresists are polymeric materials

which play the key role in the manufacturing of electronic devices. Here the brief history of the development and the components were reviewed

moreover the emphasis were especially focused on the photoresists

which may applied in193nm.

光刻胶化学放大微版印刷术

PhotoresistChemical AmplifiedMicrolithography

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