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低温等离子体改性聚合物膜的原理
专论与综述 | 更新时间:2022-09-18
    • 低温等离子体改性聚合物膜的原理

    • The Principles of the Mo Dification to Poiymer Surfaces by Cold Plasma

    • 高分子通报   1991年4卷第2期 页码:76-80
    • 作者机构:

      成都科技大学高分子研究所,成都,610065

    • 作者简介:

      [ "叶先科 男,1966年生于湖北省随州市。1988年毕业于哈尔滨工业大学高分子材料专业,同年以优异成绩免试保送到成都科技大学高分子材料研究所攻读硕士学位,主要从事聚合物界面化学方面的学习与研究,目前正在进行“等离子体改性聚合物膜的原理与应用”的毕业论文工作。在读期间已发表学术论文2篇," ]

    • DOI:10.14028/j.cnki.1003-3726.1991.02.003    

      中图分类号:
    • 纸质出版日期:1991,

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  • 叶先科, 张开. 低温等离子体改性聚合物膜的原理[J]. 高分子通报, 1991,4(2):76-80. DOI: 10.14028/j.cnki.1003-3726.1991.02.003.

    Xianke Ye, kai Zhang. The Principles of the Mo Dification to Poiymer Surfaces by Cold Plasma[J]. Polymer Bulletin, 1991,4(2):76-80. DOI: 10.14028/j.cnki.1003-3726.1991.02.003.

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